Опис продукту
Очищувальна маска з лінії UNSTRESS — це незамінний засіб у вашому домашньому б’юті-арсеналі, який делікатно та ефективно очищає шкіру, виводить токсини та допомагає підтримувати необхідний рівень зволоженості.
Може застосовуватися в якості SOS-засобу, коли необхідно швидко усунути свербіння, запалення, почервоніння, набряклість та подразнення. Пришвидшує загоєння пошкоджень, стимулює кровообіг та імунітет, покращує обмінні процеси.
Має потужну антиоксидантну дію, покращує колір обличчя та робить тон однорідним. А також усуває ознаки втоми та стресу.
Екстракт календули має протимікробну та антисептичну дію. Гіалуронат натрію у складі інтенсивно зволожує шкіру. Жирні кислоти омега-3, -6 і -9 відновлюють суху та чутливу шкіру. А екстракт центелли азіатської є природним антиоксидантом, тонізує та має протизапальні властивості.
Маска призначена для всіх типів шкіри. Може застосовуватися під час вагітності та в період лактації завдяки безпечному складу.
Показання до застосування засобу: вікові зміни, зниження тонусу, зневодненість, сухість, чутливість.
Склад
Deionized water (Aqua), Caprylic/Capric Triglyceride, Glycerin, Cetyl Alcohol, Titanium Dioxide, Zinc Oxide, Glyceryl Stearate, PEG-40 Stearate, Petrolatum, Squalane, Phenoxyethanol, Sorbitan Tristearate, Caprylyl Glycol, Propanediol, Tocopheryl Acetate, CI 77289, Hydroxyethylcellulose, Sodium hyaluronate, Linoleic Acid, Allantoin, Chlorphenesin, Perfume, Thermus Thermophillus Ferment, Butylene Glycol, Oleic Acid, Glycyrrhiza Glabra (Licorice) Root Extract, Centella Asiatica Extract, 1,2-Hexanediol, Sodium acetate, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Polygonum Cuspidatum Root Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Isopropyl Alcohol, Cellulose, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Extract, Linolenic Acid, Tocopherol, Potassium Sorbate, Benzyl Salicylate
Дія засобу
Заспокоює та зменшує почервоніння, посилює захисні механізми, вирівнює текстуру та робить тон шкіри однорідним.
Застосування
Нанесіть однорідним шаром на шкіру обличчя, шиї та декольте. Залиште на 10 хвилин. Видаліть рушником, змоченим залишками Концентрату плюмерії.
Схожі товари на Unstress - Очищувальна маска